效应、黏度、保证期限等等，研究人员需要从理论上设计出符合条件的化合物，想办法进行合成，并在实践中不断优化配方，最后才有一个很小的概率能够开发出一种有效的光刻胶。有时候，开发出来的光刻胶在某些方面表现出色，而另外一些方面仍存在问题，这时候还需要与集成电路制造商协调，调整光刻工艺以规避光刻胶中存在的缺陷。总之，就是一句话，认为光刻胶没有技术门槛，是彻头彻尾的外行言论。那么，高凡是外行吗？显然不是。他之