feuv光刻机的核心技术，主要由三大系统构成。

首先是euv光源系统，这个系统负责制造光刻过程中，需要用到的特殊光线。

从第一代的uv光刻机，到第五代的euv光刻机，光线的波长也从436n，缩短到了135n，目前所有的光刻机，就是通过光线的不同，来区分技术等级的。

这其中主要涉及到的原理，就是光学中光线波长和清晰度的关系。

最简单的道理，就是进入黄色