有些是光刻胶没有去除干净，有些是刻蚀不到位，有些是气相沉积出现了偏差，等等，各种各样的问题不一而足。

乔瑞达原本打算在原来的芯片生产线的基础上，通过升级部分核心设备的方式，进化到28nm制程，现在看来这条路是走不通了。28nm及以下制程，要使用到浸润式光刻机（DUV），这已经是一个全新的体系，加入了很多的新技术，新工艺。整个生产线，需要全部推倒，重新设计，定制才成。像是两者使